ナノパーティクル デポジション システム

  ガスデポジション法は（GD法）は、不活性ガス中で試料（堆積させたい材料）を蒸発させ、ナノサイズの微粒子を生成し、不活性ガスをキャリアとして高速で基盤へ衝突させて成膜する技術であり、成膜速度が速いことから厚膜形成に適している技術です。

  ナノ粒子生成室内にガスの流れを整える整流機構（整流管）を設けることで、ガスの使用量を2L／分以下にすることで、製造コスト低減を実現しました。

・   半導体素子や回路基板などの微細ピッチ電気的接続方法としての電極形成
・   回路基板上などでの配線形成
・   プローブなどの接点材料
・   ナノ粒子の物性研究

  ナノ粒子堆積プロセスの各種操作や制御パラメータの設定、監視をパソコン上で行なえるようにし、操作性向上を実現しました。

【ナノパーティクル デポジション システム　NP150H　概念図】

■   加熱方式
高周波誘導加熱 ■   使用ガス（キャリアガス）
Heなど ■   本体寸法
（W）1200mm×（D）1000mm×（H）1300mm ■   生成室容量
13.8L ■   電源電圧
3相AC200V±10％ ■   ステージ制御軸
X、Y、Z、θ ■   付帯設備
真空ポンプ（ロータリーポンプ、ターボ分子ポンプ）
チラー   装置詳細につきましてはお問い合わせください。